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Controlled formation of anatase and rutile TiO₂ thin films by reactive magnetron sputtering

机译：反应磁控溅射控制锐钛矿和金红石型TiO _{2 薄膜的形成}

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Rafieian, Damon; Ogieglo, Wojciech; Savenije, T.J.; Lammertink, Rob G H;
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年度 2015
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1. Controlled formation of anatase and rutile TiO2 thin films by reactive magnetron sputtering [J] . Damon Rafieian, Wojciech Ogieglo, Tom Savenije, AIP Advances . 2015,第9期

机译：反应磁控溅射控制形成锐钛矿和金红石型TiO2薄膜
2. Influence of Process Parameters on the Growth of Pure-Phase Anatase and Rutile TiO_2 ThinFilms Deposited by Low Temperature Reactive Magnetron Sputtering [J] . H. Toku, R.S. Pessoa, H.S. Maciel, Brazilian journal of physics . 2010,第3期

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